真空爐爐溫控制系統(tǒng)主要由可控硅觸發(fā)勵(lì)磁裝置、單片機(jī)模糊控制器、熱電偶傳感器、磁性調(diào)壓器和記錄儀等構(gòu)成，這些與被控對(duì)象（真空加熱室內(nèi)鉬絲加熱器）共同構(gòu)成直接數(shù)字控制（DDC）系統(tǒng)，整個(gè)控制構(gòu)成了一個(gè)閉環(huán)微調(diào)系統(tǒng)。

爐恒溫區(qū)內(nèi)裝有測(cè)溫?zé)犭娕迹岸松w配有觀察孔，后端蓋帶微調(diào)屏，加熱室體上，側(cè)面均開有通風(fēng)孔，冷卻工件時(shí)起導(dǎo)流作用。加熱室由鉬制材料、不銹鋼、陶瓷及硅酸鋁纖維氈等構(gòu)成，加熱器由多股鉬絲捆成一束構(gòu)成并沿爐體軸線方向及垂直方向均勻分布。

真空爐單片機(jī)根據(jù)設(shè)定工藝曲線與檢測(cè)信號(hào)比較求得偏差后，由模糊控制算法進(jìn)行模糊推理，然后發(fā)出控制信號(hào)，通過(guò)可控硅觸發(fā)裝置控制可控硅的導(dǎo)通角，從而控制其輸出電壓，此交流可調(diào)電壓再經(jīng)二極管整流變?yōu)橹绷麟妷簩?duì)磁性調(diào)壓器進(jìn)行勵(lì)磁控制，以控制磁性調(diào)壓器的輸出功率，功率連續(xù)可調(diào)，采用電阻加熱，達(dá)到控制溫度的目的。